국내 반도체 기업의 첨단 기술을 중국 회사에 넘기는 산업기술 유출 범죄가 잇따르고 있어 우려를 낳는다.

8일 법조계에 따르면 서울중앙지방검찰청 정보기술범죄수사부(안동건 부장검사)는 전날 SK하이닉스 중국 현지법인에서 근무하던 김 모씨를 산업기술유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 구속기소했다.

김씨는 중국 기업으로 이직하기 위해 SK하이닉스의 CIS(CMOS Image Sensor·빛을 디지털 신호로 변환하는 반도체 소자) 관련 첨단기술, 영업비밀을 무단 유출하고 부정하게 사용·누설한 혐의를 받는다.

검찰에 따르면 김씨는 중국 최대 통신장비 기업 화웨이의 자회사인 하이실리콘으로부터 이직 제안을 받고 이같은 범행을 저지른 것으로 조사됐다. 그는 보안규정을 어기고 사내 문서관리시스템에서 자료를 출력하거나 사진을 찍는 방법으로 첨단기술과 영업비밀을 유출했는데 그가 촬영한 기술자료 사진은 1만1000장에 달했다. 일부 기술자료는 ‘대외비’ 문구나 회사로고 등을 삭제한 후 촬영해 유출이 금지된 자료라는 사실과 출처를 은폐하기도 했다.

김씨가 사진 촬영한 자료 중에는 인공지능(AI)에 사용되는 HBM(고대역폭메모리)기술 관련 첨단기술인 하이브리드 본딩 기술자료도 포함된 것으로 조사됐다.

김씨는 SK하이닉스의 영업비밀 자료를 인용해 작성한 이력서를 중국회사 2곳에 제출한 것으로 파악됐다.

이에 앞서 검찰은 지난 2일 핵심 반도체 기술을 중국기업에 유출한 전 삼성전자 연구원 전 모씨를 구속 상태로 재판에 넘겼다.

전씨는 삼성전자에서 중국 CXMT(창신메모리반도체테크놀로지)로 이직한 뒤 삼성전자가 1조6000억원을 들여 개발한 D램 공정 국가 핵심기술을 부정하게 취득·사용한 혐의(산업기술보호법상 국가 핵심기술 국외 유출)를 받는다.

전씨는 삼성전자 부장 출신 김 모씨와 함께 CXMT로 이직하면서 삼성전자의 기술을 빼돌리고 핵심인력을 영입하는 방식으로 CXMT사의 D램 반도체 개발계획을 수립한 것으로 조사됐다.

이들은 범행이 들통나 출국금지되거나 체포되면 단체 대화방에 암호를 남기기로 사전에 협의하거나 다른 회사로 이직하는 것처럼 위장하는 등 수사에도 대비했던 것으로 파악됐다.

전씨는 CXMT로부터 계약 인센티브 3억원, 스톡옵션 3억원 등 6년간 29억원을 받았다.

전씨와 함께 범행한 김씨는 지난해 1월 재판에 넘겨져 1심에서 징역 7년과 벌금 2억원을 선고받았다. 검찰은 김씨를 수사하는 과정에서 전씨의 혐의를 포착했다고 한다.

검찰은 삼성전자 기술 자료를 유출한 공범을 국제형사경찰기구(인터폴)를 통해 계속 추적하고 있다.

검찰은 이번 기술유출 사건으로 삼성전자의 지난해 추정 매출감소액만 수조원에 달하는 등 향후 최소 수십조원의 손해가 발생할 것으로 추정했다.

검찰은 기업과 국가 경제를 위협하는 기술유출 범죄에 대해 엄정하게 대응한다는 방침이다.

구본홍 기자 bhkoo@naeil.com