인하대학교는 시스템반도체 설계 전문기업 코싸인온과 반도체 산업 발전과 전문 인력 양성을 위한 산학협력 업무협약을 체결했다고 13일 밝혔다.

코싸인온은 고속·저전력 메모리 인터페이스 IP를 개발하는 시스템반도체 설계 기업이다. DDR, LPDDR, HBM 등 차세대 메모리 컨트롤러와 PHY 설계 역량을 보유하고 있다.

이번 협약에 따라 인하대 반도체특성화대학사업단과 코싸인온은 △차세대 메모리(LPDDR6·HBM·CXL 등) 설계 교육과정 공동 개발·운영 △반도체 IP 지원을 통한 공동 연구 △채용 연계형 인턴십 프로그램 운영 등을 추진한다.

인하대는 코싸인온으로부터 연구 목적의 반도체 IP를 지원받아 공동 연구 성과를 창출하고 메모리 인터페이스 분야 연구 역량을 강화할 계획이다.

또 코싸인온은 글로벌 인턴십 프로그램을 통해 학생들의 실무 경험을 확대하고 채용 연계 기회를 제공하는 등 실무형 반도체 설계 인재 양성에 협력할 예정이다.

박성호 코싸인온 대표는 “글로벌 반도체 산업 경쟁력은 결국 인재에서 시작된다”며 “인하대와 협력해 차세대 시스템반도체 분야를 이끌 전문 인력을 함께 육성하겠다”고 말했다.

조명우 인하대 총장은 “코싸인온과의 협력을 통해 학생들이 첨단 반도체 기술을 현장에서 경험할 수 있을 것”이라며 “대한민국 반도체 산업을 이끌 핵심 인재 양성에 힘쓰겠다”고 말했다.